Редактирование:
Open Manufacturing
(раздел)
Перейти к навигации
Перейти к поиску
Внимание:
Вы не вошли в систему. Ваш IP-адрес будет общедоступен, если вы запишете какие-либо изменения. Если вы
войдёте
или
создадите учётную запись
, её имя будет использоваться вместо IP-адреса, наряду с другими преимуществами.
Анти-спам проверка.
Не
заполняйте это!
Дополнительно
Спецсимволы
Справка
Заголовок
Уровень 2
Уровень 3
Уровень 4
Уровень 5
Формат
Вставка
Латинские
Латинские расширенные
МФА (IPA)
Символы
Греческие
Расширенный греческий
Кириллица
Арабские
Арабские расширенные
Иврит
Бенгальские
Тамильский
Телугу
Сингальские
Деванагари
Гуджарати
Тайские
Лаосские
Кхмерские
Канадское слоговое письмо
Руны
Á
á
À
à
Â
â
Ä
ä
Ã
ã
Ǎ
ǎ
Ā
ā
Ă
ă
Ą
ą
Å
å
Ć
ć
Ĉ
ĉ
Ç
ç
Č
č
Ċ
ċ
Đ
đ
Ď
ď
É
é
È
è
Ê
ê
Ë
ë
Ě
ě
Ē
ē
Ĕ
ĕ
Ė
ė
Ę
ę
Ĝ
ĝ
Ģ
ģ
Ğ
ğ
Ġ
ġ
Ĥ
ĥ
Ħ
ħ
Í
í
Ì
ì
Î
î
Ï
ï
Ĩ
ĩ
Ǐ
ǐ
Ī
ī
Ĭ
ĭ
İ
ı
Į
į
Ĵ
ĵ
Ķ
ķ
Ĺ
ĺ
Ļ
ļ
Ľ
ľ
Ł
ł
Ń
ń
Ñ
ñ
Ņ
ņ
Ň
ň
Ó
ó
Ò
ò
Ô
ô
Ö
ö
Õ
õ
Ǒ
ǒ
Ō
ō
Ŏ
ŏ
Ǫ
ǫ
Ő
ő
Ŕ
ŕ
Ŗ
ŗ
Ř
ř
Ś
ś
Ŝ
ŝ
Ş
ş
Š
š
Ș
ș
Ț
ț
Ť
ť
Ú
ú
Ù
ù
Û
û
Ü
ü
Ũ
ũ
Ů
ů
Ǔ
ǔ
Ū
ū
ǖ
ǘ
ǚ
ǜ
Ŭ
ŭ
Ų
ų
Ű
ű
Ŵ
ŵ
Ý
ý
Ŷ
ŷ
Ÿ
ÿ
Ȳ
ȳ
Ź
ź
Ž
ž
Ż
ż
Æ
æ
Ǣ
ǣ
Ø
ø
Œ
œ
ß
Ð
ð
Þ
þ
Ə
ə
Форматирование
Ссылки
Заголовки
Списки
Файлы
Примечания
Обсуждение
Описание
Что вы вводите
Что вы получаете
Курсив
''Курсивное начертание''
Курсивное начертание
Полужирный
'''Полужирное начертание'''
Полужирное начертание
Полужирный курсив
'''''Полужирный курсив'''''
Полужирный курсив
=== Epitaxy === [[Molecular Manufacturing#Patterned Atomic Layer Epitaxy|Patterned Atomic Layer Epitaxy]] (PALE) consists of using a [[Scanning Tunneling Microscope]] on a Hydrogen-terminated Silicon surface to remove individual Hydroge atoms. A variety of cases can be injected into the chamber, where they deposit on the depassivated area of the surface. [http://en.wikipedia.org/wiki/Silylene Silylene] (SiH<sub>2</sub>), in particular, will deposit and add a new layer to the crystal on the depassivated site. Vertical growth is simple to achieve, but 3D, moving objects can be built using the same method: Grow a bed of Germanium, then grow the Silicon structures on top, and etch away the Ge to remove the structures and machines.
Описание изменений:
Пожалуйста, учтите, что любой ваш вклад в проект «hpluswiki» может быть отредактирован или удалён другими участниками. Если вы не хотите, чтобы кто-либо изменял ваши тексты, не помещайте их сюда.
Вы также подтверждаете, что являетесь автором вносимых дополнений, или скопировали их из источника, допускающего свободное распространение и изменение своего содержимого (см.
Hpluswiki:Авторские права
).
НЕ РАЗМЕЩАЙТЕ БЕЗ РАЗРЕШЕНИЯ ОХРАНЯЕМЫЕ АВТОРСКИМ ПРАВОМ МАТЕРИАЛЫ!
Отменить
Справка по редактированию
(в новом окне)
Навигация
Персональные инструменты
Вы не представились системе
Обсуждение
Вклад
Создать учётную запись
Войти
Пространства имён
Статья
Обсуждение
русский
Просмотры
Читать
Править
История
Ещё
Навигация
Начало
Свежие правки
Случайная страница
Инструменты
Ссылки сюда
Связанные правки
Служебные страницы
Сведения о странице
Дополнительно
Как редактировать
Вики-разметка
Telegram
Вконтакте
backup