Открыть главное меню
Главная
Случайная
Войти
Настройки
О hpluswiki
Отказ от ответственности
hpluswiki
Найти
Редактирование:
Molecular manufacturing
(раздел)
Внимание:
Вы не вошли в систему. Ваш IP-адрес будет общедоступен, если вы запишете какие-либо изменения. Если вы
войдёте
или
создадите учётную запись
, её имя будет использоваться вместо IP-адреса, наряду с другими преимуществами.
Анти-спам проверка.
Не
заполняйте это!
= Patterned Atomic Layer Epitaxy = [[Image:PALE_Explanation.jpg|center|600px]] [[Molecular Manufacturing#Patterned Atomic Layer Epitaxy|Patterned Atomic Layer Epitaxy]] (PALE) consists of using a [[Scanning Tunneling Microscope]] on a Hydrogen-terminated Silicon surface to remove individual Hydroge atoms. A variety of cases can be injected into the chamber, where they deposit on the depassivated area of the surface. [http://en.wikipedia.org/wiki/Silylene Silylene] (SiH<sub>2</sub>), in particular, will deposit and add a new layer to the crystal on the depassivated site. <gallery> File:PALE Talk 1.jpg File:PALE Talk 2.jpg </gallery> Vertical growth is simple to achieve, but 3D, moving objects can be built using the same method: Grow a bed of Germanium, then grow the Silicon structures on top, and etch away the Ge to remove the structures and machines. == Epitaxial Assembler ==
Описание изменений:
Пожалуйста, учтите, что любой ваш вклад в проект «hpluswiki» может быть отредактирован или удалён другими участниками. Если вы не хотите, чтобы кто-либо изменял ваши тексты, не помещайте их сюда.
Вы также подтверждаете, что являетесь автором вносимых дополнений, или скопировали их из источника, допускающего свободное распространение и изменение своего содержимого (см.
Hpluswiki:Авторские права
).
НЕ РАЗМЕЩАЙТЕ БЕЗ РАЗРЕШЕНИЯ ОХРАНЯЕМЫЕ АВТОРСКИМ ПРАВОМ МАТЕРИАЛЫ!
Отменить
Справка по редактированию
(в новом окне)